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第2138章 百次试错,制造光刻胶(2 / 2)

第二次、第三次、第四次……

实验一次次重启。

有时是胶膜太厚,烘干后龟裂起皮;

有时是配比失衡,胶液分层无法融合;

有时是感光过度,未曝光区域也自动变性;

有时是聚合不足,胶膜软塌,无法定型。

失败,接连不断的失败。

一次、十次、三十次、五十次……

桌面堆满了密密麻麻的实验记录纸,每一张纸上都写满配比数据、失败原因、改良方向。

空气里萦绕着淡淡的树脂清香与溶剂味道。

刘科学熬得双眼微红,看着上百次失败记录,忍不住低声感慨道:

“难怪高端光刻胶被称为化工壁垒。没有无数次试验数据的积累,根本摸不到门槛。”

一百次试错,一百次缺陷。

要么附着力差,要么分辨率极低,要么感光区间不匹配,完全达不到光刻标准。

林金莲却依旧眼神清亮,不知疲倦。

经历过无数次失败后,胶膜终于不再整片脱落,曝光区域成功固化,未曝光区域顺利溶解。

第一次出现了清晰的明暗分区!

“有效果了!”刘科学精神一振。

硅片之上,灯光照射过的地方胶膜坚硬透亮,未照射的地方被显影液干净洗脱。

虽然边缘模糊、线条粗糙,分辨率极低,完全达不到芯片纳米级标准,却意味着——

他们摸索的光刻胶,具备了光刻性能。

林金莲盯着硅片上模糊的边界,目光锐利道:

“还是不行,边缘锯齿严重,分辨率不够,无法承载细微电路图案。

只能做最粗的纹路,离芯片级还差太远。”

她说着,笔尖快速划过记录纸,敲定最终优化方向:

“溶剂再提纯一级,感光剂二次浓缩,提高胶膜致密性,降低固化误差。”

深夜三更。

实验室内灯火依旧通明。

第九百九次调试。

全新改良版光刻胶缓缓配制完成。

经过二次浓缩感光成分、高精度恒温聚合、长时间避光熟化。

这一版胶液质地更加细腻纯粹,通透如水,无一丝气泡杂质。

林金莲小心涂布在全新打磨的高纯硅片上,阴干成膜。

胶膜薄如蝉翼、均匀无瑕,触感紧实顺滑。

她拿起简易紫外光源,在硅片胶面上投射出一道极细的窄缝光影。

精准曝光、静置反应、滴入显影液。

滋滋——

细微的液体反应声响起。

几秒之后,奇迹出现。

硅片之上,一条笔直、干净、边缘平整的细线完美显现。

无毛刺、无晕染、无脱胶、无扩散。

曝光区域完好固化,未曝光区域干净剥离,界限清晰明了。

刘科学屏住呼吸,俯身凝望,眼中满是震撼。

成了。

真的成了。

在没有高端化工设备、没有机密配方、他们靠着数百次不眠不休的试错、精准入微的手感、极致严谨的推演,林金莲硬生生调试出了可用级光刻胶。

林金莲轻轻抚摸着硅片上的精细纹路,眼底终于露出一抹明朗笑意。

“基础光刻胶,达标了。”

她抬眼看向刘科学,语气从容而坚定的说道:

“现在,硅片基底有了,光刻胶材料有了。

接下来,我们要造出能够投射纳米级精密图案的光刻光路系统。

那是光刻机的眼睛,是整台设备最核心的难点。”

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